Sprühentwickler & sprühätzer

Etching Center S

Zum manuellen Sprühentwickeln, Sprühätzen, Neutralisieren, Spülen und Trocknen von ein- oder doppelseitigen Leiterplatten, Formätzteilen & Wafer

Sprühentwickler & Sprühätzer mit Zusatzmodulen

Die Anlagen der ETCHING CENTER S Gerätereihe sind speziell für den Feinstleiterbereich
entwickelte Sprühentwicklungs- und Sprühätzanlagen. Sie eignen sich zur Herstellung ein- oder
zweiseitiger Leiterplatten, Formätzteile und Wafer und sind sowohl als Stand- als auch als Tischgerät erhältlich.

ALL.
IN.
ONE.

Etching Center S

Anwendungsbereiche

LEITERPLATTENHERSTELLUNG
WAFERTECHNOLOGY
FORMÄTZEN

LEITERPLATTENHERSTELLUNG

WAFERTECHNOLOGIE

FORMÄTZEN

AUF IHREN PROZESS ABGESTIMMT

Funktionsprinzip

Der modular aufgebauten Anlagen beinhalten sämtliche Prozessschritte vom Entwickeln, Ätzen und Spülen (optional Strippen) in einem Gerät und ermöglichen die Herstellung von qualitativ hochwertigen Leiterplatten-Strukturen von 50-100µm. Die Geräte sind für die Prototypen- und Kleinserienfertigung bis zu einer Plattengröße von max. 600x700mm geeignet.

Die neuartigen Rotationssprühsysteme in den Modulen ergeben eine besonders gleichmäßige und intensive Behandlung der gesamten Platinen-Oberfläche. Die Anlagen sind mit Mehrfachspülen ausgerüstet und zeichnen sich durch ihre saubere und kompakte Arbeitsweise aus. Durch den modularen Aufbau können die Geräte mit einem Strippermodul oder diversen Zusatzmodulen erweitert werden.

ETCHING CENTER

Prozesstechnologie

Eine dichtungslose arbeitende Magnetkreiselpumpe fördert die temperierte Behandlungslösung über ein Rohrsystem zu den drehenden Rotorarmen mit Sprühdüsen. Die bestückte Universalklemmvorrichtung wird von oben in das Gerät eingehängt und von beiden Seiten von den rotierenden Präzisionssprühdüsen besprüht.

Das Entwickler- und Ätzmodul sind jeweils mit einem Ansaugfilter und Titanmantelheizkörper mit Temperaturfühler ausgestattet. Im Bedienerteil sind die digitale Zeitschaltuhr und der digitale Temperaturregler integriert. Die Entleerung erfolgt durch ein PVC- Membranventil nach vorne. Alle medium berührten Teile sind aus chemisch beständigem Kunststoff oder Titan gefertigt.


Modell	S20s	S30s	S40s	S50s	S60s
Abmessungen (mm) [BxHxT]	1300×1100 x545	1300x1100x645	1950x1100x750	Auf Anfrage	Auf Anfrage
Arbeitsfläche (LxB) [mm]	200×300	300×400	400×500	500×600	600×700
Elektrischer Anschluss	230 V AC	230 V AC	230 V AC	230 V AC	230 V AC
Arbeitshöhe (mm)	1000	1000	1000	Auf Anfrage	Auf Anfrage
Leistungsaufnahme	1100	1300	3200	Auf Anfrage	Auf Anfrage
Volumen [l]	2×10	2×10	2×35	Auf Anfrage	Auf Anfrage
Heizung [W]	2×250	2×250	2×250	Auf Anfrage	Auf Anfrage
Untergestell	PVC	PVC	Stahl	Stahl	Stahl


Modell	Sprühentwickler	Sprühätzer	Sprühstripper	Stripperküvette	Zusatzmodule	Spülmodule
Anlagenaufbau	Sprühentwickler + Stand-/Spritzspüle + Bedienpanel	Sprühätzer + Neutralisations- becken + Bedienpanel	Sprühstripper + Stand-/Spritzspüle + Bedienpanel	Stripperküvette mit Edelstahlsiebeinsatz	Zusatzmodule für chemische- & elektrochemische Anwendungen	Zusatzmodule Standspüle Stand- / Sprühspüle Heißspüle
Abmessungen (mm) S21 S31 S41 S50 S60	615x530x545 670x630x545 615x530x116 615x530x545	610x630x645 670x730x645 116x630x645 615x530x545	910x670x730 970x770x730 116x670x730 910x670x730	Auf Anfrage	Auf Anfrage	Auf Anfrage
Arbeitsfläche (LxB) [mm] Sprühätzer Sprühentwickler Stripperküvette Sprühstripper	200×300 200×300 200×300 200×300	300×400 300×400 300×400 300×400	400×500 400×500 400×500 400×500	500×600 500×600 500×600 500×600	600×700 600×700 600×700 600×700	600×700 600×700 600×700 600×700
Elektrischer Anschluss	230 V AC	230 V AC	230 V AC	230 V AC	230 V AC	230 V AC
Leistungsaufnahme Sprühätzer Sprühentwickler Stripperküvette Sprühstripper	500 600 250 500	600 700 350 600	1600 1700 1000 1600	Auf Anfrage	Auf Anfrage	Auf Anfrage
Volumen [l] Sprühätzer Sprühentwickler Stripperküvette Sprühstripper	8-10 8-10 10 8-10	10-13 10-13 18 10-13	20-40 20-40 20-40 20-40	Auf Anfrage	Auf Anfrage	Auf Anfrage
Heizung [W] Sprühätzer Sprühentwickler Stripperküvette Sprühstripper	250 250 250 250	350 350 350 350	1000 1000 1000 1000	Auf Anfrage	Auf Anfrage	Auf Anfrage
Untergestell	PVC	PVC	Stahl	Stahl	Stahl	Stahl

Trommelaggregat

Trommelaggregat mit Kontaktierung

Trommeleinheit

Trommeleinheit mit Akkumulator

Trommelaggregat

Titanausführung

Bewegungsmotor

mit stufenlos regelbarer Geschwindigkeit

Zirkulationspumpe

mit regelbarer Geschwindigkeit

Bodenheizkörper

mit digitalem Temperaturregler und eingebautem Trockenheizschutz/Niveauregler.

Filtereinheit

in 4“ und 10“

Anoden

in unterschiedlichen Größen

Halter Standard

für Plattenmaterial

Halterungen

Kühlaggregat

Wärmeaustauscher

Laborgleichrichter LCD Standard

Tischgerät

Gleichrichter - professional

Venturi System

Vibration

Vibrationsrahmen mit Pausensteuerung

Wannendeckel

PP | PVDF | PVC | Edelstahl

Edit Template

Rotationssprühsystem

Gleichmäßige Ergebnisse.

Anlagenvorteile

Gleichmäßige und schnelle Bearbeitung der Platine
Minimale Verschleppungsverluste
Kompakte, platzsparende Bauweise
Untergestell mit Sicherheitswanne
Mehrfachspültechnik
Saubere Entleerung der Wannen über Ablasshähne

Unsere innovativen Rotationssprühsysteme sorgen für eine besonders gleichmäßige und intensive Oberflächenbehandlung. Die Anlagen verfügen über eine Mehrfachspülung und zeichnen sich durch ihre saubere, kompakte Arbeitsweise aus. Dank des modularen Aufbaus lassen sie sich mit verschiedenen Zusatzmodulen wie Stripperküvetten, Abquetschtrocknern oder Zusatzbecken für chemische Bearbeitung und Endoberflächen flexibel erweitern.

Optional

Auch als Einzelmodul erhältlich!

Sprühentwickler

Sprühätzer

Sprühstripper

Module im Detail

Einzelmodul Sprühentwickler S

Kombinierte Stand-/Sprühspüle
Doppelseitig arbeitend
Rotationsspühsystem für gleichmäßige Entwicklung
Magnetgekoppelte Kreiselpumpe
Titanmantelheizkörper mit Überhitzungsschutz
Digitaler Temperaturregler
Digitale Zeitschaltuhr (sekundengenaue Einstellung)

Einzelmodul Sprühätzer S

Neutralisationstank oder optional mit Stand-/ Sprühspüle
Doppelseitig arbeitend
Rotationsspühsystem für sehr gleichmäßige Ätzung
Magnetgekoppelte Kreiselpumpe
Titanmantelheizkörper mit Überhitzungsschutz
Digitaler Temperaturregler
Digitale Zeitschaltuhr (sekundengenaue Einstellung)

Einzelmodul Sprühstripper S

Neutralisationstank und/oder optional mit Stand-/Sprühspüle
Doppelseitig arbeitend
Rotationsspühsystem für sehr gleichmäßige Strippen
Magnetgekoppelte Kreiselpumpe
Titanmantelheizkörper mit Überhitzungsschutz
Digitaler Temperaturregler
Digitale Zeitschaltuhr (sekundengenaue Einstellung)

Stripperküvette

Zusatzmodule für chemische- & elektrochemische Anwendungen

Zusätzliche Behandlungsbecken mit diversen Wannenausstattungen : Heizung mit Temperaturregler, Umwälzung, Anoden-/Kathodenrahmen usw.
Anwendungsbereich Leiterplatte:
Endoberflächenbehandlung chem. Zinn, OSP- organische Oberflächen, chem. Ni/Au
Anwendungsbereich Formätzen:
Aktivierung Edelstahl
Anwendungsbereich Wafer & Substrate: Chem. Oberflächenbearbeitung