Tischgerät

COMPACTA MD

Für die Herstellung durchkontaktierter Leiterplatten & Endoberflächen

TISCHGALVANIK

Die Tischgalvanik COMPACTA MD -Tischmodul ist universell einsetzbar für die chemische oder galvanische Abscheidung von Metallen. Die kompakte Anordnung der Behandlungsbecken in Kombination mit hochwertigen Anlangenkomponenten, ermöglicht die Herstellung von durchkontaktierten Leiterplatten auf kleinstem Raum. Durch die Erweiterung zusätzlicher Behandlungbecken für diverse Endoberflächen können professionelle
Leiterplatten in Vertikaltechnik hergestellt werden.

Die eingesetzten Prozessbäder basieren auf der umweltfreundlichen Carbon Technologie (Direktmetallisierung mit Carbon als Katalysator). Die Anlagen verfügen über folgende Prozess Schritte: Reinigen, Katalysieren (Carbon),
Mikrobeizen, Dekapieren, Verkupfern.

Carbonprozess

Behandlung aller gängigen Basismaterialien
Hohe Prozessstabilität durch lange Chemikalienlebensdauer, Einstz von Schutzbädern (Dekapierung), Teflonbodenheizkörpern u.a.
Umweltfreundlich (kein Palladium oder chem. Kupfer als Katalysator)
Schnelle Prozeßabfolge (kurze Taktraten möglich)
Keine Analytik notwendig

Optionale Prozesserweiterungen
Aufgrund des modularen Aufbaus können folgende Zusatzprozesse in die Anlagen integriert werden:

Verzinnen (Substraktivtechnik)
Desmear, Blackening, Zinnstripper
Chemisch Zinn
Organische Schutzschicht (OSP)
Chemisch Nickel/Gold
Chemisch Silber
Galvanisch Nickel/Gold
Stripper Negativresist

Modell	COMPACTA L30 MD Tischgerät	COMPACTA L40 MD Tischgerät
Funktion	Durchkontaktieren, Kupfergalvanik
Verfahren	Carbon
Abmessungen (mm) [BxHxT]	900 x 800 x 796
Arbeitsfläche (LxB) [mm]	200x300 (300 x 400 mm - auf Anfrage!)
Arbeitshöhe	449 mm
Leistungsaufnahme [W]	700 W
Elektrische Anschluss	230 V, 50Hz
Volumen Behandlungsbecken	10 L
Volumen Galvanikbecken	25 L
Volumen Stand-/Spritzspüle [l]	20 L
Anschluss Frischwasser	16 mm
Anschluss Abwasser	25 mm
Gewicht	ca. 60 kg

Lieferbares Zubehör und optionale Umrüstungen

Sicherheitswanne
Absaughaube
Vibrationseinrichtung
Strömungsoptimierung
durch Spezialdüsen
Anodensatz
Chemikalien
Platinenhalter
Filter für galvanische Bäder
Ionentauscheranlagen für Spülen
Fußschalter für Spritzspüle
Änderung der Beckengröße
entsprechend der erforderlichen
Arbeitsfläche
Pulse-Reverse-Gleichrichter

AUF IHREN PROZESS ABGESTIMMT

Anlagenaufbau

Anlagenaufbau (Basismodul):

Standardausführung:

6 Behandlungsbecken - Reiniger - Stand-/Spritzspüle - Katalysator (Carbon) - Mikrobeize - Dekapieren - galv. Kupfer
Anodenrahmen Kupfer
Ablaufhahn und Abdeckung für jedes Becken
Lufteinblasung Kupferbad
Badbewegung über allen Becken, stufenlos einstellbar