Zum Entwickeln, Ätzen, Neutralisieren, Spülen und Trocknen von ein- oder zweiseitiger Leiterplatten
The systems in the appliance range ETCHING CENTER V sind modular aufgebaute Umlaufentwicklungs- und Schaumätzanlagen zur Herstellung von ein- oder zweiseitiger Leiterplatten und Formätzteilen.
Pelvic sequence:
Die Entwicklungs- und Ätzmodule können separat als Tischmodule oder zusammengefasst auf einem Untergestell, als Standgeräte, betrieben werden.
Die zu behandelnde Platine wird in eine Klemmvorrichtung eingespannt und ohne umzuspannen durch den gesamten Entwicklungs, Ätz- und Spül-Prozess geführt. Durch die kontinuierliche Kreislaufführung von Entwickler und Schaumätzlösung ist ein schnelles und gleichmäßiges Entwickeln und Ätzen der Platinen möglich. Die Anlagen der Gerätereihe ETCHING CENTER V sind für die Prototypen und Kleinserienfertigung bis zu einer Plattengröße von 300 x 400mm geeignet. Qualitativ hochwertige Leiterplatten mit Leiterplatten-Strukturen von <100μm können in einer kurzen Bearbeitungszeit hergestellt werden. Die Anlagen sind mit Mehrfachspülen ausgerüstet und zeichnen sich durch ihre saubere und kompakte Arbeitsweise aus. Durch den modularen Aufbau können die Geräte mit diversen Zusatzmodulen zur Oberflächenbehandlung erweitert werden.
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Etching Center V
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Etching Center complete
with developer
Stand/spray rinsing Foam etcher Neutralization basin Squeeze dryer Underframe with Safety tray |
Developer with
stand/spray rinse
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Foam etcher with
neutralizing tank
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Model
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V 200
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V 300
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V 200
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V 300
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V 200
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V 300
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Dimensions (mm)
[WxHxD] |
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Work surface
(LxW) [mm] |
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Electrical connection
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Table module
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Table module
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Table module
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Table module
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Power consumption
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approx. 300 W
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approx. 400 W
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35 W
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35 W
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270 W
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370 W
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Developer content
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5 L
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7 L
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5 L
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7 L
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-
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-
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Detox tank contents
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17 L
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27 L
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-
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-
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17 L
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16 L
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Sink contents
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10 L
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20 L
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20 L
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20 L
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-
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-
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Underframe
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PVC
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Universal clamp
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2
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2
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1
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1
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1
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1
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Heating time approx.
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1,4
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1,6
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-
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-
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1,4
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1,6
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Weight
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42 kg
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13 kg
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25 kg
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17 kg
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18 kg
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23 kg
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Modular single tray system with front-mounted drain taps and integrated drip tray with underframe.
Mehrfachspültechnik über Stand-/ Sprühspüle und Neutralisationsbecken.
Der Universalplattenhalter für starres oder flexibles Material wird ohne umzuspannen durch den gesamten Entwicklungs-, Ätz- und Spülprozess geführt.
Fast and uniform development and etching through circulation of developer developer and foam etching solution.
After the wet process, the blank is dried manually using a squeeze dryer.
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