Nach dem fototechnischen Leiterplattenprozess erfolgt die Weiterverarbeitung der belichteten Leiterplatte in einem Entwicklungs‐ und Ätzprozess. Dieser Prozessschritt wird durch speziell entwickelte Entwicklungs‐ und Ätzanlagen für ein‐ oder zweiseitige Leiterplatten unterstützt. Die modular aufgebauten Anlagen ermöglichen ein schnelles Bearbeiten von Leiterplatten im Sprühätz‐ und ‐Entwicklungsverfahren oder Schaumätz‐ und Durchlaufverfahren und bieten die optimale Voraussetzung für ein hochwertiges Leiterplattenbild.